隨著現代科學和工業的發展，材料組分和結構朝著多樣化和復雜化的方向發展，傳統的拋光方法往往無法有效地制備特殊的材料和樣品，比如復合材料、多孔材料等。與傳統拋光方法相比，氬離子拋光具有應力應變小、污染少、定位準確、操作簡單和普適性等特點，使其成為材料領域內一種新型的普適性制樣方法。

氬離子拋光機工作原理

氬離子拋光機是利用離子束來蝕刻固體，它基于離子轟擊效應，也稱為濺射，是通過高能入射離子與固體樣品表面層附近的原子產生碰撞，從而去除表面原子達到拋光效果的過程。上世紀中葉，在氣體放電中首次觀察到濺射效應，當時被認為是一種損害陰極的有害效應，如今卻被廣泛應用于表面清潔、蝕刻、薄膜沉積、表面分析和濺射離子源等多種領域。如今，氬離子拋光已是應用最廣泛的電子顯微鏡樣品制備方法，在材料科學、生命科學、地質科學、電子、工業制造等熱點領域可發揮重要作用。氬離子拋光一般具備兩種拋光功能，截面拋光和平面拋光，其原理示意圖如下。

平面拋光是利用離子束中心軸和樣品臺旋轉中心軸之間有一定的偏心量，從而獲得均一的大范圍加工面。

氬離子拋光機中樣品和離子槍之間放置了擋板，樣品的上端略突出遮擋板，離子束從遮擋板上方照射到樣品上、沿著遮擋板的邊緣，加工出平坦的截面。

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