氬離子拋光技術簡介：

氬離子拋光技術，又稱離子研磨CP截面拋光技術，是利用氬離子束對樣品表面或者截面進行轟擊，以獲得表面光滑的拋光截面和平面樣品，而不會對樣品造成機械損害。去除損傷層，從而得到高質量樣品，用于在SEM，光鏡或者掃描探針顯微鏡上進行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。在材料科學、生命科學、地質科學、電子、工業制造等熱點領域可發揮重要作用。

氬離子拋光技術特點：

氬離子拋光檢測實例

1. 石油地質領域

   
   

   

   無機孔SEM圖像
   

   

有機孔SEM圖像

用于頁巖樣品制樣，離子平面拋光后的頁巖截面揭示樣品表面納米級孔隙。

2.半導體領域

離子切割后的手機柔性屏幕內部結構和材料特征SEM圖

3.能源電池材料領域

離子切割后的電池材料截面揭示其內部結構SEM圖

使用CP切割＋掃描電鏡來研究電極粉末材料、電池循環后的極片、隔膜材料、電池（薄膜電池或固態電池）截面的微觀結構和元素組成等，對于了解電池及其材料的內部結構、反應機理、失效機制等具有重大意義。

4.新材料領域

推薦產品：

ArNanoFab 100 氬離子拋光機具有高效性、可靠性，能夠在短時間內完成高強度、高硬度材料的拋光，并且可以精確控制拋光過程，保證拋光效果的穩定性和一致性。